膜厚計原理

膜厚計的測量方法有多種，根據(jù)測量對象使用合適的裝置。以下五種方法具有代表性。

1、光譜干涉膜厚儀

這是利用光干涉的膜厚計。當(dāng)光線進(jìn)入待測物體時，會在薄膜的正面和背面發(fā)生反射。這兩個反射光之間存在相移，并且該相移的發(fā)生取決于薄膜的厚度。當(dāng)波同相位重疊時，它們會相互增強，而當(dāng)它們以相反相位重疊時，它們會相互減弱，因此可以通過測量這種干涉差來測量厚度。

2、紅外膜厚儀

這是利用紅外線被測量對象物吸收的原理的膜厚計。當(dāng)用紅外線照射待測物體時，根據(jù)待測物體的材料和厚度，特定波長的紅外線被吸收。該特性用于根據(jù)通過劃分透射光或反射光獲得的光譜來測量薄膜厚度。通過預(yù)先測量被測材料的吸收率與膜厚的關(guān)系，可以計算出被測材料的膜厚。

3、電磁膜厚計

這是利用磁通密度變化的膜厚計。這是當(dāng)測量目標(biāo)形成在磁性金屬表面上時使用的測量方法，磁通量是利用密度變化這一事實的。但只有當(dāng)被測物體與金屬接觸時才能使用，且被測物體不是金屬。

4.渦流膜厚計

渦流膜厚計利用線圈產(chǎn)生的磁通量的變化來測量被測物體的厚度。通電的線圈周圍會產(chǎn)生磁通，當(dāng)線圈靠近被測量物時，磁通會根據(jù)被測量物的厚度而變化。通過檢測該磁通量的變化來測量被測物體的厚度。

5、超聲波膜厚計

超聲波膜厚計是利用超聲波反射的膜厚計。當(dāng)超聲波從被測物體的表面發(fā)射時，它會穿過物體的內(nèi)部并從背面反射。可以根據(jù)反射發(fā)生所需的時間來測量厚度。

例如，在測量玻璃等透明薄膜的厚度時，使用使用寬帶光的分光干涉膜厚計或使用紅外光的紅外膜厚計。另一方面，這些類型的膜厚計不能用于不透光的材料，例如金屬。

測量金屬電鍍等薄膜時，使用利用磁通量變化的電磁式膜厚計和利用渦流的渦流式膜厚計。此外，如果難以觸摸被測物體，也可使用超聲波涂層測厚儀等非接觸式涂層測厚儀。